专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种化学机械抛光液专利类型：发明专利发明人：庞可亮,王雨春申请号：CN201110243462.2申请日：20110824公开号：CN102952466A公开日：20130306
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光液。该抛光液含有载体、研磨颗粒、水溶性含氧酸盐及水溶性多羟基化合物。本发明中的化学机械抛光液具有较高的SiO抛光速率，并具有高的SiO/SiN去除速率选择比，同时，其具有较高的Ta抛光速率，且Ta/Cu去除速率选择比接近1。
申请人：安集微电子(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室
国籍：CN
代理机构：上海翰鸿律师事务所
代理人：李佳铭
更多信息请下载全文后查看
