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专利名称：一种磁流变抛光设备的磁场发生装置专利类型：发明专利
发明人：许亮,陈永福,许君,李智,危峰申请号：CN201510502499.0申请日：20150817公开号：CN104999344A公开日：20151028
摘要：本发明公开了一种磁流变抛光设备的磁场发生装置，包括多个可产生梯度磁场的由极性相反的两个电磁极组成的电磁极组，构成所述多个电磁极组的电磁极采用成环形布置且两相邻磁极的极性相反的三角状磁极。本发明用于磁流变液加工多自由度运动的工件，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。本发明通过试用证明：可以很有效的解决复杂形面难以抛光的难题，可减少工件加工的工序，有效提高抛光效率。
申请人：宇环数控机床股份有限公司
地址：410323 湖南沙市浏阳制造产业基地纬二路
国籍：CN
代理机构：长沙新裕知识产权代理有限公司
代理人：刘熙
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