专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：离子注入设备专利类型：发明专利发明人：陈炯
申请号：CN201210122200.5申请日：20120424公开号：CN103377866A公开日：20131030
摘要：本发明公开了一种离子注入设备，其包括用于引出离子束的离子源系统以及一用于传输离子束的离子束传输系统，该离子束传输系统的物理边界在至少一个开放方向上单向开放或双向开放，该至少一个开放方向垂直于离子束的传输路径。本发明在保证离子束传输系统高质量地对离子束进行传输的前提之下，使得该离子束传输系统适于传输的离子束的尺寸不再受到各种束流光学元件的物理边界的，而是可以根据加工需求灵活地进行改变，甚至还能够适用于采用多个并行排列的离子源系统的场合，由此实现了仅凭一个离子注入设备来应对各种多样的加工需求的目的，省去了购买多个针对单一加工需求而专门设计的离子注入设备的购买成本。
申请人：上海凯世通半导体有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路200号7号楼1号
国籍：CN
代理机构：上海智信专利代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
