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专利名称：三维测量光刻掩模的3D空间像的方法专利类型：发明专利
发明人：U.马特卡,C.胡泽曼,J.劳夫,S.佩利茨,H-J.曼申请号：CN201580045261.8申请日：20150721公开号：CN106575088A公开日：20170419
摘要：一种用于在光刻掩模(5)成像期间三维测量在像平面周围区域中的3D空间像的方法，光刻掩模布置在物平面(4)中，考虑在彼此垂直方向(x，y)中的可选成像比例比。为此，在成像光与光刻掩模(5)相互作用之后重构成像光(1)的电磁波前。包含一对应于成像比例比的作用变量。最后，输出通过包含该作用变量测量的3D空间像。这导致测量方法还可用于测量优化用于在投射曝光期间在变形投射光学单元的情况下使用的光刻掩模。
申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
地址：德国上科亨
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：邱军
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