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化学机械抛光液

来源:保捱科技网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201711350297.4 (22)申请日 2017.12.15

(71)申请人 新昌县祥云机械有限公司

地址 312500 浙江省绍兴市新昌县镜岭镇振兴路

(10)申请公布号 CN109929457A

(43)申请公布日 2019.06.25

(72)发明人 杨云忠

(74)专利代理机构 天津企兴智财知识产权代理有限公司

代理人 李俊建

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

化学机械抛光液

(57)摘要

本发明提供了一种化学机械抛光液,包含

磨料、有机酸类速率增助剂、氧化剂、缓蚀剂和去离子水,所述缓释剂由5‑氨基四氮唑和/或苯基巯基四氮唑组成。本发明所述的化学机械抛光液,具有更好的缓蚀效果,且抛光速率较高且可调,可对晶片在前序制备过程中的缺陷有较强的修复作用。

法律状态

法律状态公告日

2019-06-25

公开

法律状态信息

公开

法律状态

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说明书

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